Российский рентгеновский фотолитограф для производства микроэлектроники разработают Росатом и РАН

30.01.2023

Росатом и РАН разработают мощный фотолитограф для производства микроэлектроники. Об этом рассказал научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ, г. Саров, Нижегородская область), академик РАН Александр Сергеев в интервью журналу “Эксперт”.

“Это проект, в котором планируют участвовать несколько крупнейших учреждений Росатома и академических институтов. Я говорю о литографе на основе лазерно-плазменного взаимодействия, когда у вас есть мощный лазер и лазерная мишень в форме капли вещества или струи газа, которые, превращаясь в плазму, становятся источниками рентгеновского излучения. И тут очень важны высокоотражающие рентгеновские зеркала, потому что они позволяют это излучение концентрировать, транспортировать и рисовать с помощью него на фоторезисте различные наноструктуры”, – рассказал Сергеев.

По его словам, в России есть все необходимые для этого компоненты, которые необходимо объединить в этой разработке.

“Во-первых, мощный лазер. В Росатоме есть мультикиловаттные лазеры, которые используются в различных приложениях. Во-вторых, технология изготовления рентгеновских зеркал, например в Институте физики микроструктур РАН, у нас одна из лучших в мире. Мы также можем использовать разработки Росатома для моделирования всей этой системы на основе цифрового двойника”, – перечислил ученый.

Сергеев напомнил, что первая в мире успешная разработка рентгеновского литографа была осуществлена силами нескольких национальных лабораторий министерства энергетики США, аналога Росатома. По его словам, наши институты тоже в этой программе участвовали.

“Нам сегодня нужна аналогичная кооперация сильных институтов, и мне кажется, что уж где как не в рентгеновской литографии, мы можем обеспечить страну установкой. С учетом наших научных заделов в целом получается проект, за который надо срочно браться и делать его”, – резюмировал академик Сергеев.

Фотолитография – метод получения определенного рисунка на поверхности материала, широко используемый в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат, пишет ТАСС. Один из основных приемов планарной технологии, используемой в производстве полупроводниковых приборов.

Источник: ТАСС

Фото: atomic-energy.ru